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等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体
图研磨量与压力的数学关系式.对于晶片不同区域的研磨量与研磨时间的关系,与晶片至晶片均匀性控制方法一样,可以通过实验的方式获得p-to-b的数学关系式。当晶片进入机台研磨前,使用在线测量机台先测量晶片的前值。测量后的数据被送到iapc的计算
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